罗瑟福·阿普耳顿实验室的R. A.劳斯在去年10月1日到3日于英国伯明翰召开的85年国际半导体会议的一份报告中说:光刻设备利用准分子激光,可望提供X射线光刻的大部分优势,而避免其许多缺点。