优化设计了365 nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布,实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365 nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验,所得刻写图形与掩模板图形一致。提出的基于365 nm紫外LED阵列均匀辐照面光源的光刻方法具有结构简单、节能、环保等优势。