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本文报道一台高重复频率XeC准分子激光器的结构及其特性。采用接地栅金属陶瓷闸流管开关和气体横向流动系统及自动紫外火花预电离的放电结构。该激光器最高单脉冲能量为200mJ,最高重复脉冲频率为107Hz,
用波长为308 nm XeCl准分子激光辐射光解羰基锰二聚物Mn2(CO)10和羰基钨W(CO)。沉积锰和钨薄膜,研究了实验参量与薄膜特性之间的关系。
本文报导改进的193毫微米ArF准分子激光器,单脉冲输出激光能量超过200毫焦耳。详细地研究了紫外光预电离对输出性能的影响。
报道了一种改进电晕预电离结构的小型XeCl准分子激光器的工作参数和寿命的研究结果.
用传输矩阵法计算了一维光子晶体的透射比与层数之间的关系。
准分子器件重复频率高于千赫兹时,闸流管作为传统的放电开关由于寿命瓶颈而不能满足长期稳定工作的要求。采用固体开关结合磁脉冲压缩技术的固态脉冲功率模块(SSPPM)来替代闸流管进行高压快速放电,激光器可在
对纳秒级准分子激光泵浦的拉曼种子源的阈值特性进行了实验研究,讨论了受激拉曼散射过程的阈值条件及定义.实验测量了脉宽为25ns的氟化氪准分子激光在不同聚焦参数和不同氢气气压下的受激拉曼散射阈值.最后,分
采用KrF准分子激光直写刻蚀技术在聚偏氟乙烯(PVDF)材料表面引入刻蚀缺陷,利用刻蚀点缺陷和线缺陷的活性中心作用实现了聚偏氟乙烯表面导电层的快速制备。实验结果表明,通过激光刻蚀在该材料表面产生的刻蚀
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