基片温度和退火对CdIn

针对激光会聚铬原子沉积实验,运用标量衍射理论,通过数值模拟研究了基片衍射对会聚激光驻波场中原子波包几率密度演化的影响。结果显示基片衍射的影响会随激光中轴线与基片沉积表面距离b0的变化而变化。相对于非衍

退火工艺对BNT铁电薄膜光响应性能的影响，李静，王金斌，用溶胶-凝胶法在YSZ/Si衬底上制备Bi3.15Nd0.85Ti3O12 (BNT)铁电薄膜，研究了退火气氛和退火温度对BNT薄膜的光响应性能

退火处理对Fe-Ni-B-Si非晶合金软磁性能的影响，王江月，孙志刚，根据DSC结果，对通过铜辊甩带法制备出的名义成分为Fe40Ni40B20-xSix合金条带样品进行不同温度下的退火处理。用X射线衍

采用AFM,XPS,Hall等手段分析了氧气气氛下退火处理对ITO薄膜性质的影响,并用处理的ITO制作了有机电致发光器件.结果表明,退火处理后ITO薄膜的表面粗糙度增加,光学透过率降低.ITO薄膜经0

.tsp文件读入,模拟退火算法函数接口,测试文件,运行结果全在里面了 Simulated annealing is a greedy algorithm, but its search process

研究了热退火对飞秒激光脉冲在空气中微构造的黑硅材料的光致发光(PL)时间分辨光谱和发光强度衰减性质的影响,分析了退火后黑硅材料内光生载流子的运动和缺陷的性质。通过应用双指数函数拟合PL的强度衰减曲线,

应用电子束蒸镀氧化铟锡(ITO)薄膜, 在氮气环境中对ITO膜进行不同温度下快速热退火(RTA)处理。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)技术、扫描电子显微镜(SEM)、可见光分光谱

采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜。在300°C真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响。结果表明,最佳

米粉是使用干磨米粉制备的，将米粉进行退火和去除水溶性成分以提高面条的质量，而无需使用化学添加剂。 结合退火和去除水溶性馏分的组合处理（TC）减少了Goamibyeo的烹饪损失，但对于陈皮和Milyan

宽带基片集成波导缝隙天线