HF激光器腔内气动介质有序扰动的数值模拟
通过对化学激光器腔内介质不均匀性的分析指出,HF连续波化学激光器(CWCL)腔内的气动介质的有序不均匀扰动将是影响输出光束质量的主要因素之一.利用建立的激光器腔内二维折射率分布模型对基频和泛频HF CWCL有无激射条件下腔内气动介质的有序分布进行了数值计算.分析比较了3-Slot(3S)和2-Slot(2S)喷管结构的激光器的性能和气动介质对光束质量的影响.数值模拟指出,在望远式非稳腔输出条件下,腔内1 m喷管阵列的气动介质有序不均匀扰动对光束质量的影响不大,但由于相位扰动的均方差将随喷管阵列长度的平方增大,对于HF泛频输出尤应重视.另外,3S在工作性能和光束质量方面均优于2S.
暂无评论