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锑铋合金薄膜是一种新型超分辨光学功能材料,了解它的基本光学性质对其在光学信息存储及光子器件应用方面具有重要意义。用磁控溅射法制备了不同成分的锑铋合金薄膜(Sb1-XBiX,X=0,0.1,0.2,0.
光学薄膜是一类重要的光学元件,它广泛地应用于现代光学、光电子学、光学工程以及其他相关的科学技术领域。在光的传输、调制,光谱和能量的分割与合成以及光与其他能态的转换过程中起着不可替代的作用。
利用磁控溅射法,在不同的工艺条件下制备氮化钛薄膜。详细分析了不同工艺条件下薄膜的光谱选择特性以及相应的光学常数,通过俄歇电子能谱对薄膜的不同深度的元素成分进行了分析,由原子力显微镜测量并处理得到氮化钛
光学干涉膜专题会议作为美国光学协会应用光学春季会议的一部份于1984年4月17~19日在加里福尼亚州蒙特里召开。
通过旋涂法在单晶硅片上制备了一系列含有不同数目溴取代基的酞菁铜衍生物:一溴代四烷氧基酞菁铜(MBTAPcCu),二溴代四烷氧基酞菁铜(DBTAPcCu), 四溴代四烷氧基酞菁铜(TBTAPcCu)和无
采用射频溅射法制备了Ag8In14Sb55Te23相变薄膜,对沉积态薄膜在300°C时进行了热处理,测量了不同厚度薄膜的反射、吸收谱及光学常数.研究了薄膜的光学常数与薄膜厚度的关系,结果表明在一定的厚
电沉积ZnSe薄膜的合成及性能表征，于兴芝，张成光，首先，从理论上分析了硫酸锌和亚硒酸钠在简单酸性溶液中进行电化学共沉积制备ZnSe薄膜的可行性；然后，在硫酸锌和亚硒酸钠的酸性�
ITO薄膜的微结构及其分形表征，孙兆奇，吕建国，采用直流磁控溅射法制备氧化铟锡（ITO）薄膜，用XRD、TEM和分形理论测试和分析了不同退火时间ITO薄膜的微结构。XRD分析表明：退火时间
在常压条件下,以铜箔为基底、CH4为碳源,通过化学气相沉积法(CVD)生长出了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱、扫描电子显微镜、四探针电导率仪表征分析了产物。结果表明:生长温度为1 000℃,H2流量为60m
光学薄膜诱导偏振像差对大数值孔径光学系统聚焦特性的影响
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