图1中给出了一种基于标准双极工艺的N+-p型光电二极管[36],其中的N+区是由N+埋层以及插入的N+集电极注入形成,P区则是直接利用轻掺杂的P型衬底。图中N+区与P+区的间距为5 gm,N+区的面积被定义为光电探测器的面积。 图1 双极工艺N+-P型光电二极管 这种结构能够高效地进行光电转换,在外加偏压为双极电路工作电压(4.2 V)时的量子效率η=30%°但是由于受前面叙述的耗尽区外光生载流子缓慢扩散的影响,其响应速度较慢。该探测器与一跨阻抗为1.8 kΩ的双极型前置放大器单片集成,当探测器面积为100×100μm2,入射光波长/1=850 nm时,可以测得开眼图比特率达