介绍了用脉冲激光沉积(PLD)方法制备AlN薄膜的工作,在Si(100)衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜,由实验结果拟合得到能隙宽度为5.7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。