日立制作所研制成“扫描光子显微镜”,其原理是:当光照射半导体晶片时,在有结晶缺陷、污染、损伤的部分所产生的表面光电压比正常部存的要低,利用这一现象在晶片上进行光斑扫描,以非接触方式读出各点产生的光电压
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论述了使用原子力显微镜测量超光滑光学表面的优点及其在光学领域中的重要应用, 列举了用这种方法测试得到的超光滑光学表面微轮廓图及纳米量级的微缺陷, 以及这些表面镀膜前后表面形态结构和微粗糙度的变化。 作
