采用辉光放电等离子体增强化学气相沉积(GP-CVD)技术在低温条件下合成了高品质的亚微米金刚石薄膜,并通过对合成过程的实时发射光谱诊断确定了[CH4-H2]系统参与金刚石合成反应的主要荷能粒子.对合成
退火气氛对脉冲激光沉积制备的Zn0.92Co0.08O薄膜铁磁性的影响,何琼,王浩,采用脉冲激光沉积方法在P型Si(100)和石英玻璃衬底上用ZnCoO陶瓷靶材制备出了Zn0.92Co0.08O薄膜。
氧分压对ZnO薄膜结晶质量和光学特性的影响,董武军,张庆瑜,利用脉冲激光沉积技术,在同一沉积温度(750℃)、不同沉积气压的条件下,在Si(100)基片上制备了未掺杂的高c轴取向的ZnO薄膜。通过扫�
前一报导描述了激光在光学透明材料——诸如玻璃、碱金属的卤化物、CaF2、MgO、靑玉和水晶——中引起的损坏;本文报导在天然的透明金刚石中观察到的这种效应。
以硬质合金为衬底,采用化学气相法(CVD),通过改进预处理方法和优化沉积工艺参数,在钻模套内孔表面沉积金刚石薄膜涂层。利用扫描电子显微镜、表面粗糙度测量仪、激光喇曼光谱仪和洛氏硬度计对金刚石薄膜涂层的
采用微波等离子体化学汽相淀积法,以C60膜为过渡层,在光滑的单晶Si衬底(100)表面和研磨的石英衬底表面等光学衬底上,首次在无衬底负偏压条件下生长出多晶金刚石薄膜,通过扫描电镜观察到生长膜晶粒呈莱花
本文报道热丝化学气相沉积法(HFCVD)生长金刚石薄膜的喇曼散射结果.选取多种峰型,对金刚石薄膜喇曼谱(1100~1800 cm-1)采用最小二乘法进行非线性拟合,得到最佳拟合模型,其计算得到的拟合曲
金刚石层对AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管电学特性的影响
AlN缓冲层厚度对脉冲激光沉积在c蓝宝石衬底上生长的ZnO薄膜性能的影响
等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究,汤凯,信裕,利用Gaussian03软件,在CCSD/6-311++G(d,p)水平上计算了等离子增强化学气相沉积金刚石薄膜中,以CH4/H2及引入