用光声激光偏转(OLD)测量了强TEA CO2脉冲激光辐照SiH4-H2系统产生等离子体淀积(LPCVD)硅薄膜过程中的激波效应,证明激光击穿SiH4诱发的激波效应是LPCVD中基本的气体动力学过程,并讨论了激波对膜生长的影响。