磁流变抛光回转对称非球面工件精确自定位

为解决磁流变抛光中回转对称非球面工件的高效率精确自定位问题,提出了基于迭代最近点(ICP)的改进两级定位方法(ITLICP)。首先,根据磁流变抛光特性和恒浸深控制要求,确定了磁流变抛光工件非调平定位自原理。接着,针对经典ICP算法应用于回转对称非球面工件定位存在解不唯一及计算效率低的问题,构建初始迭代矩阵实现了位姿唯一的指定性匹配;并提出了空间垂直映射方法,减小匹配点云的规模,提高了计算效率。以此为基础,提出了改进后的两级ICP精确定位方法ITLICP。最后,以φ100mm凹形抛物面熔石英工件为对象,设计定位及验证实验。结果表明:精确定位方法ITLICP多次实验均满足磁流变抛光定位要求,定位精度优于9μm,平均定位时间为7.3min,在保证定位精度的同时,提高了工件的定位效率。