利用作者试制的紫外-可见椭圆偏振光谱仪研究了溅射无定形硅薄膜的光学性质,获得了不同氢分压制备的无定形硅在紫外至可见光谱范围内的n~λ、k~λ等关系,并对结果进行了讨论.