通过热丝化学气相沉积法生长了(110)取向的金刚石膜。 微波辅助氢等离子体刻蚀Craft.io用于获得氢封端的金刚石膜。 研究了氢等离子体刻蚀过程中气压和衬底温度对金刚石膜结构和电学性能的影响。 紫外拉曼光谱显示CHX键随气压和底物温度的增加而增加。 霍尔效应测量结果表明,较高的CHX键密度导致较高的薄层载流子密度和较低的薄层电阻,这有助于制造高频和大功率场效应晶体管。