首次报道了利用双离子束溅射技术制备ZrOx光学薄膜。研究了薄膜中氧锆原子比与沉积工艺参数的关系，并给出了相应的薄膜折射率变化规律。结合卢瑟福背散射(RBS), X射线光电子能谱(XPS), X射线衍射(XRD), 透射电子显微镜(TEM)等微观分析手段，确定了制备高质量ZrOx薄膜的最佳工艺参数。
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多层周期结构制作中的离子束抛光技术研究，刘全，程渔，离子束抛光技术是一种先进的加工技术，是原子量级上的无应力、非接触式的抛光工艺。根据多层周期结构制作中的需要，实验研究了离
常用折射率表是指登记了部分物质的常用折射率的表格，分为绝对折射率和相对折射率。相对折射公式：n21=sinθ1/sinθ2=n2/n1=v1/v2，绝对折射公式：n=sini/sinr=c/v。
常用物体在可见光波段下的折射率，可用于一般仿真
用一个冷阴极离子枪产生的氧离子轰击淀积过程中的薄膜表面.研究了离子轰击对薄膜聚集密度和潮气吸附的影响.实验表明,经离子轰击的ZrO_2,TiO_2和SiO_2膜,用石英晶体微量天平测得的聚集密度增加到
采用哈特曼夏克传感器的薄膜应力在线测量仪测量了利用离子辅助电子束蒸发的SiO2,TiO2,Ta2O5,Al2O3与ITO薄膜在不同厚度时的应力值,并深入研究了基片材料与沉积参数对SiO2,TiO2薄膜
PECVD沉积参数对硅薄膜生长速率的影响，王志辉，强颖怀，高效、稳定、廉价的多晶硅薄膜太阳电池有可能替代非晶硅薄膜太阳电池成为新一代无污染民用太阳能电池。传统等离子体化学汽相沉积
分别求得制作自聚焦平面微透镜的开孔式和掩盘式离子交换的相应扩散方程的解,导出掩盘式微透镜的最佳折射率分布,给出微透镜的成像矩阵,制得掩盘式平面微透镜阵列并给出其成像照片及基本参数.
针对单晶硅柱面镜加工过程中面临的加工效率低、加工精度差以及表面质量难控等问题,提出采用离子束倾斜入射的方法来进行单晶硅柱面镜的加工工艺优化。通过建立离子束倾斜入射的去除函数理论模型,揭示去除效率同入射
针对蓝宝石有序纳米结构的制备,使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+离子束在不同参数下刻蚀蓝宝石(C 向)表面形成的自组织纳米结构及其光学性能。结果表明,当离子束入射能量为1200 eV、束流密度为
在分析大型节筒坡口数控等离子束加工机床的工作原理的基础上,运用UG软件对大型节筒坡口数控等离子束加工机床进行三维实体建模及装配,并将模型导入虚拟样机分析软件ADAMS中。利用多体系统动力学理论,在AD
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