溅射离子源的初步调试(1993年)
介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套，在相同的引出总束流前提下，可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果，引出的靶上总束流：氮离子达10mA；氩离子1mA；铜离子达10mA；钛离子30uA。
介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套，在相同的引出总束流前提下，可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果，引出的靶上总束流：氮离子达10mA；氩离子1mA；铜离子达10mA；钛离子30uA。