图5.44 “电流源激励”对话框和电压源激励一样，在使用电流源激励时，用户也需要注意以下两点。

（1）电流源激励所在的平面/缝隙必须远小于工作波长，且平面/缝隙上的电流是恒定的。

（2）电流源激励是理想的源，没有内阻，因此后处理时不会输出S参数。

5.3.8 磁偏置激励

当HFSS设计中使用到铁氧体材料时，需要通过设置磁偏置激励（Magnetic Bias）来定义铁氧体材料网格的内部偏置场；该偏置场使铁氧体中的磁性偶极子规则排列，产生一个非零的磁矩。如果应用的偏置场是均匀的，张量坐标系可以通过旋转全局坐标系来设置；如果应用的偏置场是非均匀的，不允许旋转全局坐标来设置张量坐标系。均匀偏置场的参数可以由HFSS直接输入，而非均匀偏置场的参数需要从其他的静磁求解器（如Ansoft Maxwell 3D软件）导入。