# 台积电0.13um工艺库下载
台积电0.13um工艺库下载及使用指南
您提供了关于台积电0.13um工艺库下载和使用的详细指南。我们将介绍如何下载和安装该工艺库，并提供使用该工艺库进行芯片设计的步骤
光刻胶等效扩散长度对0.13um工艺窗口的影响
(上海华虹NEC电子有限公司,上海201206)摘 要:介绍了如何通过测量得出的等效扩散长度和光刻机的照明条件来对任何光刻工艺的
台积电0.18um.lib文件
台积电用于Hspice仿真的0.18um的工艺库文件
台积电的0.18um.lib文件
台积电的0.18um.lib文件
ADS使用台积电工艺包CMOS0.13umPDK
该工艺包是ADS使用的PDK文件，工艺是台积电TSMC0.13umCMOS工艺，给射频集成电路设计人员提供EDA辅助设计。
0.35um台积电工艺库mm0355v.l
该资源包含0.35um的MOS管在内的全部0.35um台积电工艺库 。 可以在HSPICE,candance等软件中调用。mm0
台积电0.35毫米工艺详解.rar
处理技术模式转换光刻和蚀刻层的增长氧化和沉积掺杂剂的介绍扩散离子注入技术模块0.35毫米1P3M聚酰亚胺技术过程特性工艺流程集成
SMIC0.13um
SMIC0.13微米工艺库文件：l013_v2p6
台积电工艺库tsmc018r.lib
台积电的工艺库，需要的同学可以自行下载。包含了12个nmos和pmos模型
0.13工艺高性能库
0.13工艺 高性能库