AZO薄膜电阻特性研究,杨家棚,端木庆铎,采用原子层沉积(AtomicLayerDeposition,ALD)技术制备AZO薄膜。本文主要研究了ZnO循环百分比和退火时间对AZO薄膜电阻的影响,以及不同组�