掺硼非晶硅薄膜的性能研究

通过“显微拉曼分析”研究了在“常规”实验室条件下保存的标准硅样品晶圆表面上硅纳米晶体的存在，以提高激光辐照强度。 如此小的晶体与硅晶圆块之间的不良热连接使得在光谱中出现了两个非常不同的拉曼能带，并随着

现场可编程门阵列(FPGA)技术因其提供的设计灵活性,已为系统设计人员广泛采用。非晶硅反熔丝FPGA技术尤其有用,它可以提供一种高电路密度与低功耗,以及非易失性编程和高可靠性的组合。为了充分发挥其可靠

使用基于草酸的前驱体方法合成了Ni0.5Cu0.25Zn0.25GdxFe2-xO4（x=0.0、0.025、0.05、0.075、0.1）铁氧体。使用双线圈磁化率设置之一测量所有Ni0.5Cu0.2

石墨烯的卓越机械和电气特性使其成为增强电极材料有效性的可行候选材料。 近年来，石墨烯基SiO2纳米复合材料是锂离子电池负极材料的研究热点。 本文采用水热法合成了无定形SiO2纳米球/石墨烯复合材料。

硅掺杂碳纳米管薄膜的制备及其力学性能，童潇，李达，通过浮动催化化学气相沉积法成功制备了硅原子掺杂的碳纳米管薄膜。利用电子扫描显微镜(SEM)、透射电子显微镜（TEM）、X射线光电子能

非晶InWO薄膜晶体管的退火Craft.io开发

采用光谱型椭偏仪(SE)和分光光度计分别测量了超薄类金刚石(DLC)薄膜和非晶硅(a-Si)薄膜的椭偏参数(y和D)和透射率T。由于薄膜的厚度与折射率、消光系数之间存在强烈的相关性,仅采用椭偏参数拟合

朱乐仪,黄信凡,王 立,王晓伟,马忠元,李 伟,陈坤基(南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室,江苏南京 210093)摘要:利用相移光栅模板使KrF准分子激光形成强度周期分布的激光束,定域晶化

铍镁共掺氧化锌纳米晶的制备及光学性能，李玉芳，刘妍利，胶体氧化锌纳米晶是一类非常重要的半导体材料，与传统薄膜材料相比它有许多优势，如优异的光电性能、易于制备和加工。掺杂或合金

采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响,得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明,最佳工艺参数