硅介质材料的等离子刻蚀选择比研究

我们提出了AMY有效动力学方法的强耦合常数g对夸克-胶子等离子体中高动量粒子的能量损失的下一领先顺序的扩展。 首先，通过热成分的弹性散射以及介质引起的非共线共裂来确定喷射颗粒的传输。 我们将这种描述重

研究了介质加载型表面等离子体(DLSPP)波导中发光粒子的自发辐射特性.通过经典偶极子近似,给出了发光粒子在SPP 波导任意位置处的自发辐射速率与自发辐射耦合成表面等离子体(SPP)导波模概率的计算方

等离子喷涂热障涂层材料弹性模量与硬度的压痕测试分析，毛卫国，陈强，采用纳米压痕法，研究了经高温热循环处理后的等离子喷涂热障涂层材料弹性模量和硬度的抛物线式演变规律，并采用Weibull统计分析方�

纳米等离子体辅助增强钙钛矿材料的激射特性，袁方，吴朝新，近年来，有机无机铅卤钙钛矿材料在光电子应用领域引起广泛关注。本文通过两步法制备出平整致密的甲基胺铅卤钙钛矿薄膜。该薄膜在

我们提出了基于多个等离子体激元共振的微波区域中的宽带反射超材料偏振旋转器的设计,仿真和测量。 通过数值和实验进一步证明了由椭圆环形图案,电介质层和连续金属层组成的超薄宽带极化转换。 磁共振和电共振产生

采用输出功率8 W的355 nm NdYVO4纳秒激光器和3 W的1030 nm飞秒激光器对0.4 mm的单晶硅的刻蚀进行了对比研究,研究了激光的单脉冲能量密度,脉冲宽度,脉冲耦合率等参数对加工质量和

氢氩等离子体下催化刻蚀制备多Kong掺硼金刚石电极

干刻蚀对于不同负载效应造成选择比差异导致的缺陷分析与解决方案，赵弘鑫，程秀兰，在半导体制造工艺的干法刻蚀（DryEtching）中，对于刻蚀薄膜表面面积大小的差异性会造成负载效应（Loadingeff

磁镜场约束等离子体的离子模拟的计算，主要是磁镜的应用

半导体支撑的可调谐太赫兹介质加载的表面等离子体激元波导的理论研究