射频磁控共溅射制备LiLaTiZrO薄膜电解质

二氧化钛薄膜材料具有较好的光致催化和亲水特性,但其对可见光低的利用率极大地限制了应用。通过非金属掺杂可以有效提高其光催化性能。采用射频磁控溅射法,以Ar/N2为工作气体,在石英衬底上制备出了掺氮TiO

溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响，文斌，刘超前，本文基于脉冲直流磁控溅射技术，利用自制单一Cu2ZnSnS4(CZTS)陶瓷靶材于室温下在普通纳钙玻璃上沉积了CZTS

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利用React磁控溅射制备织纹透明的B / Al掺杂ZnO导电薄膜

通过磁控管射频（rf）溅射技术在各种沉积条件下生长包含金纳米颗粒的二氧化硅膜。 比较了在400℃衬底温度下沉积的复合膜与在室温下沉积的复合膜的结构和光学性质。 研究了AuNPs的衬底温度对Au / S

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