N2分压对ZrGeN阻挡层微结构及性能影响,张彦坡,刘波,本文采用射频磁控溅射技术制备ZrGeN薄膜,研究N2/(Ar+N2)比率与ZrGeN薄膜微结构、成分与性能的相关性。采用高分辨透射电镜(HRTEM)、俄歇电