采用化学溶液沉积法和快速退火工艺在石英玻璃衬底上成功地制备了掺镧钛酸铋(BLT)铁电薄膜。X射线衍射测量显示, 生长在石英玻璃衬底上的BLT薄膜结晶良好, BLT薄膜的透射光谱测量显示生长在石英玻璃衬
张红娣,刘彩池(河北工业大学半导体材料研究所,天津 300130)摘要:对国内外在重掺硅中氧沉淀方面的研究做了综合阐述,对氧沉淀研究现状和存在问题进行了讨同时就热处理,掺杂剂对氧沉淀的影响做了浅析,使
利用连续Ar+激光使绝缘层上的多晶硅薄膜再结晶.实验结果表明多晶硅晶粒尺寸显著增大,电学性能大为改善,并且与常规的集成电路工艺相容.
近年来, 随着微机电系统(MEMS)地不断发展, 对微型材料的柔性、可加工性以及电活性提出了更高的要求。PVDF作为优秀的柔性铁电材料而备受关注。 为提高柔性PVDF薄膜的铁电性能, 研究同时使用了三
为强化铸造孕育剂的孕育效果,制备非晶纳米晶孕育剂。将Re-Si-Fe孕育剂和FeB在真空熔炼炉中熔融混合成合金,再采用快速凝固技术将Fe-Si-B-Re合金在真空快淬炉中制备成非晶纳米晶薄带。将此薄带
用Q开关YAG激光器的1.06 μm的脉冲激光在硅及玻璃衬底上沉积了氮化硼薄膜。做了SEM,XRD,红外透射谱和紫外一可见透射谱等测试。确认为六方氮化硼(h-BN)薄膜.并测出其禁带宽度、晶格常数等。
非晶入门培训,让外行粗略了解非晶材料和产品
铍镁共掺氧化锌纳米晶的制备及光学性能,李玉芳,刘妍利,胶体氧化锌纳米晶是一类非常重要的半导体材料,与传统薄膜材料相比它有许多优势,如优异的光电性能、易于制备和加工。掺杂或合金
非晶丝SI效应的研究,王潇睿,谭彧,本文对非晶丝SI效应(StressImpedanceEffects)进行了初步研究,并提供了一种有效的非晶丝SI效应研究实验方法,得出非晶丝在受轴向拉应��
硅掺杂碳纳米管薄膜的制备及其力学性能,童潇,李达,通过浮动催化化学气相沉积法成功制备了硅原子掺杂的碳纳米管薄膜。利用电子扫描显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能
