纳米硅氧薄膜的低温沉积及其光电特性 ,刘海旭,赵静,本文目的在于研究低温下获得高质量纳米硅氧(nc-SiOx:H)薄膜材料的制备条件,采用甚高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,以硅