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FZO透明导电薄膜的制备及性质研究 ，王洋，李黛薇，用溶液燃烧法在低温条件下制备了F掺杂ZnO(FZO)透明导电薄。溶液燃烧法兼具溶胶凝胶法和燃烧法的特点，可以在更低的退火温度下生成ZnO
在常压条件下,以铜箔为基底、CH4为碳源,通过化学气相沉积法(CVD)生长出了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱、扫描电子显微镜、四探针电导率仪表征分析了产物。结果表明:生长温度为1 000℃,H2流量为60m
AZO透明导电薄膜的制备及性质研究，徐英明，郝旺，利用溶液燃烧法制备掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜，该方法主要依据硝酸根与乙酰丙酮发生自蔓延反应会放出大量热量，克服了传统的
综述了当前透明导电薄膜的最新研究和应用状况.重点讨论了ITO膜的光电性能和当前的研究焦点.指出了目前需要进一步从材料选择、工艺参数制定、多层膜光学设计等方面来提高透明导电膜的综合性能,使其可见光平均透
薄膜体声波谐振器(FBAR)具有体积小、工作频段高、性能强等优势, 在滤波器领域有广泛的应用前景, 其最核心的功能层为压电薄膜。本文采用磁控溅射方法, 在6英寸硅片上制备了AlScN压电薄膜。对AlS
吡唑啉衍生物的合成及其性能研究，韩冬静，陆伟红，本文合成了一系列的吡唑啉化合物，这些化合物经过了表征，并研究了其荧光光谱，荧光光谱研究表明该类化合物能与 Cu2+ 发生一定的作
聚丙烯酰胺的合成与性能研究，潘洪亮，张庆武，本文以丙烯酰胺（AM）、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、二甲基二烯丙基氯化铵为原料，采用偶氮类为引发剂，通过水溶液聚合法分别制备�
对近年来关于中孔沸石的合成和相关性能研究方面的进展进行了综述和分析。中孔沸石的合成方法目前主要有:后处理法、硬模板剂法、软模板剂法、键阻断法等,其中软模板剂法是指以两性有机硅烷等为软模板合成中孔沸石,
胺-亚胺铬配合物的合成、晶体结构及催化性能研究，徐铁齐，，本文在氮气保护的条件下通过胺-亚胺配体的锂盐与CrCl3(THF)3合成了两个胺-亚胺铬化合物[2-C6H4(NPh)(CH=NPh)]CrC
采用光引发聚合方式,以丙烯酰胺(AM)和甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DMC)为共聚单体,合成了阳离子度为16.03%,特性粘数为548mL/g的阳离子聚丙烯酰胺絮凝剂。采用红外光谱对阳离子聚丙烯酰胺
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