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冷喷涂成型工艺制备Si3N4陶瓷涂层，张一弛，李飞宇，本文采用冷喷涂成型技术和常压烧结制备了以?-Si3N4为主相的Si3N4陶瓷涂层。首先制备了具有不同固相量的Si3N4浆料，然后喷涂Si3N4浆料
MACE（金属辅助化学蚀刻）方法由于具有创建高吸光性硅表面的能力而备受关注。 这种方法可以在像森林的硅表面上生成许多圆柱状的微观结构，这被称为“硅纳米线阵列”。 通过增加光的传播路径，该结构可以显着抑
用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜。以325 nm He-Cd激光器为光源对薄膜进行了荧光光谱分析,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形
采用磁控溅射方法在载波片和Al基片上制备了氮化钛薄膜;通过改变N2流量来改变薄膜中N/Ti原子比例。采用分光光度计和扫描隧道显微镜测试手段对氮化钛薄膜光学性能随N2流量变化的规律进行了研究。薄膜反射率
在金属表面激光熔覆陶瓷材料过程中,过大的温度梯度产生的热应力易使熔覆层开裂。降低激光熔覆陶瓷材料过程中的温度梯度,一定程度上能够降低热应力,抑制裂纹缺陷产生。通过模拟计算Ti6Al4V基板上双激光束熔
碳微球的制备与表面氧化研究，吉卫云，王雪峰，以脱油沥青为碳源，采用化学气相沉积法制备了碳微球，并在2000℃下的真空烧结炉里热处理1h。场发射扫描电子显微镜（FESEM）、高分辨�
烧结温度对PVT制备定向多孔碳化硅陶瓷组织和性能的影响，刘波波，杨建锋，对于碳化硅高温再结晶工艺获得的定向多孔碳化硅陶瓷，研究了烧结温度对材料组织结构和性能影响。结果表明在低于2050℃的温度烧结�
采用溶胶-凝胶方法在普通的载玻片上制备了CdS微晶掺杂的TiO2/SiO2复合薄膜。用正硅酸乙酯、钛酸丁酯、醋酸镉作原料,比较了两种硫化剂:硫尿和硫代乙酰氨的硫化作用。X射线衍射谱和拉曼光谱揭示了Cd
溶胶-凝胶法制备氧化镍薄膜电致变色特性的研究，魏红莉，何峰，电致变色材料作为一种新型功能材料将会在许多领域得到应用。本文利用溶胶-凝胶法在ITO导电玻璃上成功制备了氧化镍薄膜。利用XRD对�
高能球磨法制备纳米氧化亚铜粉末的研究，黄锡峰，张福全，本文采用高能球磨法制备纳米Cu2O粉末，研究了Cu和CuO粉末采用行星球磨机进行球磨，球磨机筒体和磨球材质均为不锈钢，在球料比为30：1
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