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离子注入是另一种掺杂技术,离子注入掺杂也分为两个步骤:离子注入和退火再分布。离子注入是通过高能离子束轰击硅片表面,在掺杂窗口处,杂质离子被注入硅本体,在其他部位,杂质离子被硅表面的保护层屏蔽,完成选择
鼠标离子效果
LOIC离子炮用于DOS攻击,压力测试,便捷上手
离子缩放插件,可随意对UNITY里的离子发射器进行缩放,不再需要因比例大小出问题而无法匹配特效而需要从新调试离子发射器离子大小带来的麻烦事情
离子文件 用构建的官方文档。 :flashlight: :pushpin:
基于介质阻挡放电的等离子体净化技术,COMSOL仿真
离子注入是指当真空中有一束离子束射向一块固体材料时,离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面,这个现象叫做溅射;而当离子束射到固体材料时,从固体材料表面弹了回来,或者穿出固体材料而去,这些现象叫做
离子登录
离子-FotoGramFront
指纹离子 它是用于指纹认证的演示应用程序
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