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采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜,利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明,激光预处理可以使SiO2
利用脉冲激光沉积技术在Ti6Al4V(TC4)合金表面制备了羟基磷灰石(HA)薄膜,研究了退火温度对薄膜组织和性能的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和傅里叶红
钛酸钡薄膜的制备及其场发射特性研究，刘爱青，元光，利用钛酸钡（BaTiO3）薄膜替代了金属－氧化物－硅（MOS）结构冷阴极的氧化物绝缘层，并利用场发射扫描电镜、X射线衍射、EDS分析表征�
制备并研究了染料掺杂EO—PVA有机材料膜片的存储性能.用氩离子单线激光作光源,获得了良好的实时和长时存储图像信息.最低存储功率密度可小于0.2 W/cm2。分析了该材料的存储机理,确定了最佳存储参数
利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发(IBAD)在K9 玻璃上制备了HfOsub>2 薄膜。采用DX-2000 型X 射线衍射仪(XRD)对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE
采用一种新工艺在Si和Si3N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜,并对其微观结构和光电特性进行了研究。测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到3个数量级,红外透过率在相变前后改
以乙酰丙酮铱[Ir(acac)3]和高纯氧为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法在基板温度为340 °C的石英玻璃和硅基板上制备了金属铱薄膜。采用反射光谱测试仪、X射线电子能谱(XPS)、X射线衍射(
X-射线衍射技术对NiOx电致变色薄膜的研究，钟一叶，刘化然，电致变色是指材料德光学性能(光的透射、反射和吸收)通过外加电场或电流的作用，在包括可见光波长的某一波长范围内发生可逆变化的�
运用离子溅射沉积技术制备光学增透膜,着重研究离子溅射技术对制备的薄膜性能的影响, 包括表面形貌、 折射率、薄膜弱吸收、薄膜结构等性能,分析离子溅射技术的特点及制备薄膜的局限性。
掺杂及退火对ZnO溶胶凝胶薄膜光电特性影响的研究进展，李建昌，曹青，本文从第一性原理理论计算和实验方面综述了掺杂及退火对ZnO溶胶凝胶薄膜光电特性影响的最新进展。III、IV族及稀土元素掺杂可在ZnO
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