光刻技术工艺及应用

极紫外光刻机光源技术

浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径, 可以将193 nm光刻延伸到45 nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理, 讨论了液体浸没带来的问题, 最

氧化铟锡(ITO)导电膜具有电阻率低、透光性好、耐高温等优点,在光电领域具有重要应用。现有加工方法得到的ITO电极尺寸一般为10~200 μm,这限制了ITO电极在微纳领域的应用,为解决此限制,在传统

沟槽功率器件的源层光刻工艺研究，周闻天，缪进征，本文主要阐述了沟槽功率器件的源注入光刻层工艺优化的过程及结果，并详细介绍了源注入光刻层工艺变更对各项工艺的影响。基于器件

SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法，俞乃霖，，本文基于SuperJunction(SJ)结构高电压功率半导体，阐述了如何利用光刻工艺形成SJ的特殊结构，分析了其特殊器件结构造成的光刻工艺难点�

随着半导体制造步入1x nm技术节点时代,光刻机中的对焦控制精度需要达到几十纳米。在纳米精度范围内,硅片上的集成电路(IC)工艺显著影响调焦调平系统的测量精度。基于实际的调焦调平光学系统模型和三角法、

浸润式光刻工艺中水渍残留的优化，莫少文，李杨，水渍缺陷，是浸润式光刻工艺所产生的一种特有的缺陷。由于浸润工艺引入了水，所以在曝光时，水时刻存在。但是在曝光的过程中，以

微电子（光刻）制造工艺著作（新加坡国立大学，英文的），写得比较全面。

谢常青,陈大鹏,李兵,叶甜春(中国科学院微电子中心,北京,100010)摘要:PHEMT器件和基于它的高频单片集成电路广泛应用于现代微波/毫米波系统。当PHEMT器件的栅长缩短到足够短的时候,沿着栅宽

三百六十行,行行出状元,但状元也是需要查找和学习铸造工艺及设备的,欢迎大家下载铸造工艺及设备参考使...该文档为铸造工艺及设备,是一份很不错的参考资料,具有较高参考价值,感兴趣的可以下载看看