Bi底层对FexPt100 x(x = 40~58)薄膜磁性的影响

在气压为10 Pa的惰性气体Ar环境下,采用XeCl准分子激光器(波长308 nm),调整激光单脉冲能量密度为4 J/cm2,激光烧蚀电阻率为3000 Ω·cm的高纯单晶Si靶,在玻璃或Si衬底上沉积

涂料对TiO2薄膜激光损伤阈值的影响

通过使用不同溅射功率的射频(RF)磁控溅射技术,在石英衬底上生长了氧化锌(ZnO)薄膜,该技术将其功率从10 W调整到200W。发现溅射功率起着重要的作用。在电影的成长过程中。 检查了结晶度,吸收和光

生长在蓝宝石C面上的ZnO薄膜是通过等离子体金属有机物化学汽相淀积方法获得的,由其X光衍射得知,生长过程中分段退火和最后退火在薄膜中分别引入了张应力和压应力.通过对样品光致发光光谱研究表明:分段退火样

考虑光学薄膜中界面吸收的影响,提出了模拟界面吸收层模型,并对各种膜系的温度场进行了分析计算。文中对样品激光损伤的光热偏转实时观察结果支持了这一模型。

在不同激光重复频率下用脉冲激光沉积方法(PLD)在Si (111)衬底上生长了ZnO薄膜, 以325 nm He-Cd激光器为激发源获得了薄膜的荧光光谱以研究其发光特性, 用X射线衍射仪(XRD)和原

利用金属有机化合物气相外延沉积技术在2 inch (5.08 cm) Si(111)图形衬底上生长了GaN外延薄膜,在Al组分渐变AlGaN缓冲层与GaN成核层之间引入了AlN插入层,研究了AlN插入

微焦点X射线源是微计算机断层扫描技术设备的核心部件。研究了电子束在靶材中的横向扩散引起的透射式微焦点射线源的焦点尺寸和强度的变化规律。结果表明:当打靶电子束的束流密度遵循高斯分布时,其产生的X射线强度

微观组织对X80管线钢HIC裂纹扩展的影响，彭先华，刘静，按NACETM0284-2003标准对X80管线钢进行HIC裂纹敏感性测试，用扫描电镜观察裂纹的扩展方式，采用背散射电子衍射（EBSD）技术分

约束对X65管道钢断裂韧性的影响研究，韩克江，帅健，本文研究SENB试件厚度对断裂韧性和裂纹尖端应力约束水平的影响规律。在整个裂纹扩展过程中，CTOD随着裂纹扩展而逐渐减小，当裂纹扩�