理想的清洗工艺是应用那些完全安全、易于并比较经济地进行处理的化学品,并且在室温下进行。这种工艺并不存在。然而,关于室温下化学反应的研究正在进行。其中一种37是将臭氧与另外两种浓度的氢氟酸溶液(图5.27)在室温下注入盛有超纯净水的清洗池。超声波作为辅助以提高清洗的有效性。 喷洒清洗。标准的清洗技术是浸泡在湿法清洗台或全自动机器中的化学池中进行的。当湿法清洗被应用到0.35到0.50微米的技术时代时,也相应出现了一些顾虑。化学品越来越多,浸泡在池中会导致污染物的再次沉积,而且晶片表面越来越小,越来越深的图形阻碍了清洗的有效性。多样的清洗方法于是开始结合。喷洒清洗具有几个优越性。化学品直接喷到晶片