有机残余物是含碳的化合物,例如指纹中的油分。这些残余物可以在溶剂浸泡池中被去除,例如丙酮,乙醇或TCE。一般说来,要想将晶片表面的溶剂完全烘干非常困难,所以如果可能,会尽量避免用溶剂清洗晶片。另外,溶剂经常会有杂质,从而使其本身成为了污染源。