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利用磁控溅射法,在不同的工艺条件下制备氮化钛薄膜。详细分析了不同工艺条件下薄膜的光谱选择特性以及相应的光学常数,通过俄歇电子能谱对薄膜的不同深度的元素成分进行了分析,由原子力显微镜测量并处理得到氮化钛
线性渐变透过率薄膜元件是光刻系统中光可变衰减器的关键元件。采用电子束蒸发实现了近线性248 nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备。通过对敏感度进行计算和优化,基于减反膜基础膜系实现了低敏感非规整膜系的设
围绕着激光预处理的增强机理和具体工艺,进行了小光斑扫描处理的实验探索,对0.532 μm波长预处理的实验结果进行了分析,进一步证实了激光预处理对改善光学薄膜质量、提高光学薄膜损伤阈值的有效性和可行性,
GB/T 33049-2016 偏光片用光学薄膜 涂层附着力的测定方法 提供国家标准《GB/T 33049-2016 偏光片用光学薄膜 涂层附着力的测定方法》电子版的,同时提供更多偏光片,附着力,光学
用脉宽为60 fs, 频率为1 kHz,中心波长为800 nm的飞秒脉冲激光照射在高纯度的Cu 、Ag、 Au金属靶材表面, 在损伤阈值附近产生周期性结构, 并随着脉冲作用数的增加, 产生的规则周期性
电子束斜入射蒸发制备氧化铝薄膜的光学性质。
为了研究光学薄膜界面的互相关特性及光散射特性,介绍了光学薄膜的散射理论和模型。依据光学薄膜矢量散射的表达式,借助于总背向散射理论分析了光学薄膜界面互相关特性对光散射的影响,并用实验验证和分析了TiO2
研究了1064 nm激光辐照致光学薄膜分层剥落的损伤特性及其抑制手段。从光学薄膜的界面结构出发分析了温升在分层剥落产生过程中的作用,从理论上得出了剥落面积与辐照脉冲能量之间的关系式并通过实验进行验证,
运用一种新的测量单面镀膜膜层光学参数的方法, 对不同热处理的GeTe半导体薄膜样品的光学参数进行了测量, 准确地获得了被测薄膜材料的光学参数, 并采用椭圆偏振光谱测量作比较研究。 以此为基础, 对用椭
斯托克斯椭偏仪可以快速测量薄膜材料的光学参数,其仪器矩阵的精确度直接影响系统对薄膜反射光线斯托克斯参量的测量,间接限制了薄膜参数的测量精度。对线偏振光与标准薄膜片产生不同偏振态的机制进行理论推导,并根
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