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TiO2团簇在单晶硅表面吸附的第一性原理研究，宋孝宗，高贵，用第一性原理的平面波赝势计算方法研究了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工中锐钛矿型TiO2分子团簇在单晶硅表面化学吸附的表面构型�
Lightly doped hydrogenated amorphous silicon thin films were deposited through the plasma enhanced c
等离子体沉积亲/疏水性SiCOH膜层血液相容性研究,王贵学,张勤,采用低温等离子沉积技术在Si片表面沉积SiCOH膜层,等离子体反应单体为三甲基硅烷(trimethylchlorosilane,TMS
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