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铁电溅射膜可能在集成光学领域内得到应用,尽管大多数波导作用元件以单晶结构为基础。众所周知,多晶体或陶瓷材料有明显的电-光效应。溅射薄膜很容易制备,并可淀积在便宜的玻璃或石英基板上。遗憾的是由于晶体边界
不是搞IT的,就跟大家分享一下光学设计方面知识
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随着气动系统和横向激励系统的进展,越益明显的证据表明气体激光器不久即可在引爆可控热核聚变方面与钕玻璃相竞争。
硅薄膜的制备及光学性能研究，马胜利，王利，本文采用磁控溅射技术，通过改变溅射功率制备了系列非晶硅薄膜，并研究了薄膜的光学性能。结果发现，随着溅射功率的提高，硅薄膜
本文报道了用分光光度仪对In-Sb膜薄的光学性质进行测量的结果,并采用较严格的双层膜透射公式进行处理.获得了折射率n、消光系数k的数据,并由此计算出吸收系数α和波长λ的关系及光学能隙和介电常数虚部2n
提出了一种计算光学介质膜系表面总积分散射(TIS)的理论模型。该模型认为,介质膜系粗糙的膜层界面和表面为微观结构不均匀的微薄过渡区;过渡区可用折射率为不同常量的层数足够多的均匀子层来代替,同时这些均匀
采用高频溅射方法制成Te-In-Sb系统的非晶态薄膜.系统的研究了不同组分薄膜的透射、反射谱,及其在结晶过程中的变化.用透射电镜研究了Te-In-Sb薄膜的结构和晶化过程.分析了组分对薄膜的吸收系数、
采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响,得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明,最佳工艺参数
高能量密度物理(HEDP)是一个近年发展起来的充满新物理现象和具有重要应用前景的交叉前沿领域。高能量密度状态在天体中普遍存在。随着高功率激光器、高能粒子束和Z-箍缩发生器的发展,在实验室产生高能量密度
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