对用不同方法制备的软X光激光实验用的Al衰减膜样品,用Auger电子能谱(AES)结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析,结果表明表面氧化层主要由Al2O3组成,氧化达到饱和时的氧化层厚度≈7.5 nm。由于在软X光波段内,氧的吸收系数比铝大一个多数量级,这一氧化层对软X光透过率的影响甚大。将AES测试结果作为参数,使用公式I=I0.exp[-μ(E).(ρd)]对X光透过强度进行修正。同步辐射软X光对样品透过率的直接测量表明,对于透过率大于20%的Al膜,直接测量结果与按修正公式计算的结果在最大偏差11%范围内符合。