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在SiO2溶胶合成阶段进行化学改性,将六甲基二硅氮烷(HMDS)引入SiO2溶胶,制得稳定的胶体,胶体中SiO2纳米颗粒表面的亲水性Si-OH基团被疏水性的Si-O-Si(CH3)3基团取代。采用旋转
硅介质材料的等离子刻蚀选择比研究,刘珂,陈国动,本文研究了一种基于电感耦合型高密度等离子体刻蚀设备的硅介质材料刻蚀工艺,刻蚀气体使用CHF3、CH2F2和O2的混合气体。实验数据表明�
基于端射耦合的表面等离子体极化子干涉纳米光刻
疏水性对螺旋型抗癌肽生物活性的影响,黄宜兵,王笑非,本文以一个具有两亲性α螺旋型结构的26肽为模板(亲本肽P),通过在其非极性面进行亮氨酸和丙氨酸相互替换改变疏水性,设计了一系�
广度优先搜索BFS、一致代价搜索UCS、深度优先搜索DFS和启发式搜索A*的详细理解,最重要的是自己创建的例子,并进行详细的分析和算法步骤的图示
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