ArF和KrF准分子激光器用的光学材料和膜层的抗激光强度
设计了308 nm XeCl准分子激光对高分子材料的表面处理系统,初步探讨了紫外激光处理高分子材料表面的物理和化学过程,用本实验装置对聚四氟乙烯材料进行表面处理,改进了材料的粘着性,测定了材料与水的浸
本文采用分子束和改装过的质谱装置,进行了氯化氙准分子激光诱导的氨分子紫外光电离的研究。我们不仅在(m/e)=16,17处分别观察到NH_2~+和NH_3~+离子峰,而且还在(m/e)=18处观察到NH
准分子激光绝对波长校准技术中, 参考中心波长位置抖动是影响校准精度的主要因素, 寻峰算法是解决这类问题的有效途径。通过仿真和实验研究比较了5种寻峰算法, 结果显示, 高斯非线性曲线拟合寻峰法误差最小,
提出了一种面向步进扫描投影光刻机的深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法。通过建立扫描曝光过程的抽象模型并分析准分子激光器单脉冲能量波动特性,提出采用闭环反馈控制进行实时调节,着重研究了抑制单脉冲能量超
本文考虑了XeCl激光振荡器中放大自发辐射对阈值条件和输出特性的影响,建立了激光和放大自发辐射归一化光通量的耦合输运方程,求得激光和放大自发辐射光通量分析和输出功率的解析表达式。结果表明:(1)放大自
面向光印刷互连背板的应用需求,提出基于准分子激光消融原理对光波导的刻蚀技术进行研究,在背板上任意位置获得光波导端面实现光耦合。采用193 nm 波长的准分子激光作为光源,通过方形掩模孔径投影在互连背板
本文从预电离电子密度、激光输出能量及放电特性等方面对用于准分子激光器的电子束预电离及X光预电离进行了研究和比较。
准分子激光是20世纪70年代末到80年代出现的新型激光器。它的输出波长在紫外波段,具有脉冲能量高、光束均匀性好等优点,广泛应用于染料激光器的抽运源、激光光刻、激光退火和激光医疗等领域。
The effects of some parameters in XeCl excimer laser with automatic preioniza-tion on the laser outp
