16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据, 对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光过程中反射镜的瞬态温度和变形分布。以Zernike多项式为接口拟合变形面, 分析热变形对成像性能的影响。结果表明:物镜的最高温升和最大变形分别为3.9 °C和10.2 nm, 高温态物镜的热变形引起的最大波像差均方根和畸变分别为0.1λ和56 nm, 超出了合理范围。M3和M4反射镜热变形累加引起的波像差和畸变的占比分别为88%和99%, 对成像性能的影响起主导作用, 需要对其进行严格控温。