垂直堆叠Si纳米线的Bosch蚀刻Craft.io的优化

摘要一种自上而下的流程实现方法制造多个垂直堆叠的单晶硅纳米线(SiNWs)已在论文中提出。 这蚀刻和钝化沉积Craft.io,对于最终的结构轮廓,通过变化进行详细研究处理时间和施加的功率,从而获得优化的加工参数以形成sta- 可重现的SiNW堆叠结构。