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通过射频磁控溅射在硅(1 0 0)衬底上沉积多晶Zn(1-x)Eu(x)O(x = 0,0.02,0.05)薄膜。 研究了薄膜的结构,光学和磁性。 X射线衍射和光致发光光谱的结果都表明Eu(3+)离子
针对白光LED光谱与自然光谱的不同,讨论了采用光学薄膜改善白光LED光谱的可行性,同时提出了一种利用光学薄膜消除白光LED发光光谱中蓝光成份的方法,设计了光学薄膜的透过率曲线,并分析了其可行性.针对单
利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发(IBAD)在K9 玻璃上制备了HfOsub>2 薄膜。采用DX-2000 型X 射线衍射仪(XRD)对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE
用单波长椭圆偏光仪与分光光度计相结合,构成一种简便实用的测量方法,可以测出常用介质薄膜在任一波长的折射率。分析指出,适当选择薄膜的位相厚度,可使折射率测量误差<1×10~(-2),这对通
本文论述气相混合蒸镀的实验方法,介绍了三种控制程序,给出了两种宽带增透膜的实验镀制结果.实验表明,气相混合蒸镀技术具有极大的应用潜力.
光学薄膜的缺陷是光学系统性能提高的瓶颈, 一直是实验和理论研究的重点。选取电子束蒸发工艺制备光学多层膜的典型缺陷, 用扫描电子显微镜(SEM)测试了表面缺陷的形貌、成分。膜料选取:TiO2,SiO2。
装置是由配有微机的快速扫描分光光度计组成,在镀膜时不断测量膜层的光谱透射率曲线以监控膜厚,并作了监控三层膜的试验。 装置的性能:测量波长宽度333nm;波长点数:50点;透射率精度:±1%;光谱透射率
光热位移偏转技术结合横向光热偏转技术可用于研究薄膜样品的热膨胀系数.本文以SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2、ThF4等单层光学薄膜为例.报道相关的实验方法及实验结果.
采用Nd:YAG三倍频激光对光学薄膜进行了预处理。实验发现三倍频激光预处理对薄膜的抗激光损伤能力有明显的影响,影响规律比较复杂,归纳得出合适激光预处理能量密度与测试激光能量密度有关。理论上借助杂质诱导
TiO2和ZrO2薄膜的激光损伤实验表明:随着薄膜吸收的减小,薄膜的单次和多次脉冲损伤阈值都单调提高,导致损伤的主要因素是由于薄膜的吸收(包括本征和杂质吸收)、多次脉冲破坏具有一定的微破坏累积效应.
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