表面等离子体激元腔增强超深亚波长光刻的功能

提出了一种能够在大面积上增强超深亚波长光刻的表面等离子体共振腔。 空腔由两层金属膜组成:一层被刻蚀有周期性的凹槽,以激发金属/电介质界面上的表面等离子体共振。 下面的另一个被光致抗蚀剂层隔开。 数值模拟表明,腔中的光刻图案的特性可以通过腔的深度来调节。 在这种系统中,调制背后的物理图像通过间隙表面等离激元的相位调节得以确认。