利用磁控等离子体溅射团簇束流沉积法制备不同覆盖率的Ag 团簇薄膜,控制薄膜的组装结构以及与罗丹明6G(RH6G)分子的间距,研究薄膜的表面等离激元(SPP)对分子发光增强的作用。结果表明,当分子与薄膜紧邻时,将导致其荧光的淬灭,当分子与薄膜之间有氮化硅介质阻隔层时可有效抑制荧光的淬灭。当在薄膜与分子间生长厚度为15 nm 左右的介质阻隔层时,使分子荧光增强约450%。随着介质阻隔层厚度增加,荧光增强强度按e 指数衰减。