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椭圆偏振光谱法(SE)用于表征溶胶-凝胶法制备的钒氧化物(VOx)单壁碳纳米管(SWCNT)复合膜。 使用五个Tauc-Lorentz振荡器模型来描述VOx和VOx-SWCNT薄膜的光学响应中的色散。
本文应用椭圆偏振光谱法,研究未经热处理的Pt/(n-Si)界面.在350O(?)~650O(?)的光谱范围内,对椭圆偏振光谱的测量数据进行分析计算,以确定界面的光学响应.结果表明,Pt/(n-Si)界
硅纳米晶量子点是硅发光研究领域最有潜力、最重要的一个研究方向。用热蒸发法在硅片上生长了富含硅纳米晶体的SiO2薄膜,观测到嵌埋于SiO2薄膜中硅纳米晶的较强光致发光谱;室温下在可见光区对该薄膜进行了椭
The HFS high vibrational levels of perturbation of Na2 have been directly observed by high resolutio
对椭圆偏振光谱中的主角测量条件进行了分析。当入射角等于主角θp时,椭偏参数的相位为90°,据此给出了当材料的介电函数已知时对θp进行数值和解析计算的公式和方法,并可相应地计算出椭偏参数的幅值ρp0。在
Er(2)O(3)-Al(2)O(3)膜在室温下通过射频磁控管技术沉积在Si(001)衬底上。 分别在O(2)环境中将样品在450、600和750摄氏度下退火30分钟。 通过光谱椭圆偏光法研究了沉积样
拥有介质/金属/介质结构的透明导电多层膜的光学与电学性能优于单层透明导电氧化物膜或金属膜,且能够在低温下制备。采用磁控溅射室温制备ZnO/Ag/SiN透明导电多层膜,并进行变角度椭圆偏振光谱测量。对单
给出了方便实用的计算非线性旋光角Δθ的公式,在理论上分析了非线性旋光角随椭圆特征参量改变的变化规律,给出了数值模拟的结果,并针对具体手性材料与入射光强估算了非线性旋光角的量级。
利用作者试制的紫外-可见椭圆偏振光谱仪研究了溅射无定形硅薄膜的光学性质,获得了不同氢分压制备的无定形硅在紫外至可见光谱范围内的n~λ、k~λ等关系,并对结果进行了讨论.
椭圆偏振技术，详细说明，公式推导
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