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从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响。研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收
在不同的基底温度和离子源能量下, 采用电子束蒸发方法在GaAs基底上分别制备了SiO2、TiO2和Al2O3光学薄膜。测量了所制备薄膜的表面应力, 并对不同离子源能量下薄膜的折射率进行了测试。结果表明
有许多证据表明，电磁波的平均功率P与与其相互作用的物体的机械运动之间存在关系。我们研究了红外（IR）光的平均功率P对通过原子层沉积法沉积在硅上的薄立方Yb2O3和菱形LaAlO3薄膜的透射傅里叶变换红
采用直流反应磁控溅射设备制备WO3薄膜,对一组温度在47~400℃范围制成的WO3薄膜进行恒电流的电化学循环试验;利用紫外-可见-近红外分光光度计测试WO3薄膜的电色性能。结果表明,染色后WO3薄膜的
退火工艺对BNT铁电薄膜光响应性能的影响，李静，王金斌，用溶胶-凝胶法在YSZ/Si衬底上制备Bi3.15Nd0.85Ti3O12 (BNT)铁电薄膜，研究了退火气氛和退火温度对BNT薄膜的光响应性能
Ce-Cu共掺杂对SnO2薄膜光电特性的影响，单麟婷，李建昌，采用溶胶凝胶法制备不同Ce含量的Ce-Cu共掺杂SnO2薄膜。通过实验及第一性原理计算研究了掺杂对SnO2微观结构及光电特性的影响.结果表
应用电子束蒸镀氧化铟锡(ITO)薄膜, 在氮气环境中对ITO膜进行不同温度下快速热退火(RTA)处理。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)技术、扫描电子显微镜(SEM)、可见光分光谱
采用直流磁控溅射方法,以K9玻璃为衬底制备掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)薄膜。在300°C真空条件下对样品进行退火处理,研究不同退火时间对薄膜内部微观结构、表面形貌及光学特性的影响。结果表明,最佳
研究了不同浓度磁流体薄膜样品的厚度对其场致双折射的影响。结果表明,固定磁流体浓度时,其双折射随样品厚度的增加而减小,且厚度不同的样品,其双折射随磁场的增加的变化趋势不同。对于薄样品,其双折射随磁场的增
采用弧离子增强磁控溅射(AEMS)方法制备了TiAlSiN多元硬质薄膜,研究了不同Al含量对薄膜常温及高温微观形貌的影响。结果表明,此类薄膜均具有致密的显微组织,对应于特定Al含量,薄膜表面形貌最优,
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