# 离子注入
离子注入
离子注入是另一种掺杂技术,离子注入掺杂也分为两个步骤:离子注入和退火再分布。离子注入是通过高能离子束轰击硅片表面,在掺杂窗口处,
离子注入SiO
本文用卢瑟福背散射和光吸收技术研究了高剂量Ag离子注入SiO_2玻璃以及退火后的状况.吸收光谱测量表明,注入的Ag离子聚集形成了
扩散和离子注入
离散二极管和晶体管能在晶体生长的时候在硅ingot里形成结而生产出来。假设硅ingot开始的时候是P型晶体。经过短暂的生长后,通
Zn离子注入LiNbO
利用离子注入技术制备了不同Zn 离子剂量掺杂的铌酸锂样品,研究了Zn 离子注入对LiNbO3 晶体红外光谱特性的影响。实验结果显
Er离子注入Al
采用溶胶-凝胶和离子注入复合工艺在氧化的Sio2/Si(100)基片上制备掺Er3+:Al2O3光学薄膜.900°C烧结,掺Er
SRIM2011离子注入
SRIM2011离子注入模拟器，半导体行业可以下
离子注入原理及分析
课程内容: 1 离子注入及其原理 1.1 离子注入掺杂 1.2 离子注入设备及工作原理 1.2.1 离子源 1.2.2 初聚系统
离子注入相关知识介绍
由于传统扩散技术的限制性,现代工艺大量使用了离子注入。 离子注入机是一种特殊的粒子加速器,用来加速杂质原子,使他们能穿透硅晶体到
什么是离子注入技术
离子注入技术是近30年来在国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性高新技术。其基本原理是:用能量为100keV量级的离子束入射
锂离子注入对V
采用真空蒸发经热处理制备了V2O5薄膜, 使用二电极恒流法从1 M/L LiClO4的PC电解质溶液向V2O5薄膜注入锂离子,