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摘 　 要: 本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义。叙 述了两种磁控溅射靶的安装方式、 结构与特点。介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学 实验和科学工作中的应用与效果。

摘要介绍了电子束蒸发镀膜速率控制的基本原理和方法，选取实际生产中大量使用且蒸发特性较难控制的Si02 和Hf02，对两者的电子束蒸发速率控制分别进行了实验研究。采用比例积分微分(PID)闭环反馈控制，通过 Ziegler—Nichols工程经验公式进行原始参量整定，并在实验的基础上对控制器的原始参量