光学薄膜设计

采用双层(BIAl)YIG膜结构来制作单模磁光波导。通过改变外延生长工艺来调节两层薄膜的折射率,可在一定波导的厚度范围内实现单模传输。X射线衍射测量表明薄膜质量良好,且易磁化方向平行膜面,最后利用棱镜

本文报道了用分光光度仪对In-Sb膜薄的光学性质进行测量的结果,并采用较严格的双层膜透射公式进行处理.获得了折射率n、消光系数k的数据,并由此计算出吸收系数α和波长λ的关系及光学能隙和介电常数虚部2n

采用高频溅射方法制成Te-In-Sb系统的非晶态薄膜.系统的研究了不同组分薄膜的透射、反射谱,及其在结晶过程中的变化.用透射电镜研究了Te-In-Sb薄膜的结构和晶化过程.分析了组分对薄膜的吸收系数、

劳伦斯·利弗莫尔国家实验室用复制的环氧树脂薄膜能使“Nova”激光系统最后的聚焦光学元件不受向心爆炸核聚变靶新喷射出来的碎片的影响。利弗莫尔物理学家沃顿森(R. Wirterson)说,这种厚度为0.

采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响,得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明,最佳工艺参数

Sb掺杂ZnO薄膜电学、光学性能的研究，丁萍，潘新花，采用氧等离子体辅助脉冲激光沉积（PLD）法，在n-Si(001)衬底上制备出性能良好的Sb掺杂p型ZnO薄膜，其电阻率为44.18Ωcm，空穴浓度

通过射频磁控溅射在硅(1 0 0)衬底上沉积多晶Zn(1-x)Eu(x)O(x = 0,0.02,0.05)薄膜。 研究了薄膜的结构,光学和磁性。 X射线衍射和光致发光光谱的结果都表明Eu(3+)离子

利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发(IBAD)在K9 玻璃上制备了HfOsub>2 薄膜。采用DX-2000 型X 射线衍射仪(XRD)对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE

用单波长椭圆偏光仪与分光光度计相结合,构成一种简便实用的测量方法,可以测出常用介质薄膜在任一波长的折射率。分析指出,适当选择薄膜的位相厚度,可使折射率测量误差<1×10~(-2),这对通

采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性