论文研究加速版图光刻工艺热点检查的方法研究 .pdf

沟槽功率器件的源层光刻工艺研究，周闻天，缪进征，本文主要阐述了沟槽功率器件的源注入光刻层工艺优化的过程及结果，并详细介绍了源注入光刻层工艺变更对各项工艺的影响。基于器件

杂散光对光刻工艺影响的新型监控方法研究与设计，梅志伟，李海华，杂散光是光学系统中成像光线以外的非成像光线。投影曝光系统中的杂散光对光刻解析度,关键尺寸特性有着重要影响，其影响精确评估��

浸润式光刻工艺中水渍残留的优化，莫少文，李杨，水渍缺陷，是浸润式光刻工艺所产生的一种特有的缺陷。由于浸润工艺引入了水，所以在曝光时，水时刻存在。但是在曝光的过程中，以

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